SiteMap
公司信息
股東 · 投資者資訊
CSR
HOME
>
產品介紹
>
拋光機・乾式蝕刻機
> 8000系列 Fully Automatic Dry Etcher
產品介紹
8000系列 - Fully Automatic Dry Etcher -
乾式蝕刻機
8000系列全自動亁式蝕刻機是一種利用等離子(電漿)氟類氣體對晶片實施蝕刻加工的消除應力設備。該設備能夠去除晶片背面的研磨變質層,從而能減少晶片的破損及翹曲現象的發生,改善晶片的抗折強度及翹曲度,因此能進一步提高半導體封裝元件加工工程中的成品良率。此外,將亁式蝕刻加工與DBG製程組合使用,不但可以去除晶片背面的研磨變質層,而且還能去除因半切割加工而產生的切割側面變質層。該組合製程與只對晶片背面實施的去除應力加工法相比,可獲得更高的晶片抗折強度。
DBG+亁式蝕刻加工的製程流程
研磨/拋光機
拋光機
乾式蝕刻機
DFE8040
DFE8060
停産設備
可加工的晶片直徑
ø8"
ø8"及ø300 mm
處理方式
高密度細束等離子體(電漿)
使用氣體
SF
6
/He/N
2
晶片搬運部
晶片盒架數量
2
晶片盒部流程模式
異盒回收流程(Open flow) (只能收料)
搬運臂
該裝置先將晶片從研磨機的清洗裝置搬運到蝕刻加工室內,稍後再將加工完畢的晶片卸到預工作台上。
預工作台
為了交換加工完畢的晶片而設置的工作台。
收料用機械手
將加工完畢的晶片存放到晶片盒內的裝置。
晶片盒架
存放晶片用的晶片盒架。
使用晶片盒
只使用DBG晶片盒
輔助裝置
亁式泵
蝕刻加工室換氣專用泵
排氣速度
27m
3
/h
到達壓力
10 Pa abs
*推薦每年進行1次檢修。
回轉式泵
加工物吸附專用泵
排氣速度
1.9m
3
/h
到達壓力
0.3 Pa abs
*推薦每年進行1次檢修。
RF電源
等離子(電漿)發生用高頻電源
流量控制器
用於控制供應氣體的流量
各種閥門類
用於控制加工部以及氣體的供應
氣體檢測器
當HF氣體泄漏到主機或輔助裝置外部時,可用該儀器進行檢測
*推薦每半年進行1次校準。
冷卻裝置
RF電源・上側電極冷卻用、下側電極冷卻用合計使用2台。
設定溫度範圍
+5 ~ +35 ℃
最大流量
15 L/min
12 L/min
最大排氣壓力
0.42 MPa
冷卻能力
2.41 kW(設定在20℃時)
3.5 kW(設定在20℃時)
使用水質
純水
其它規格
電力
電壓
三相 AC 200V ±10%
頻率
50/60 Hz
耗電量
加工時: 5.0 kW
待機時: 3.4 kW
加工時: 7.0 kW
待機時: 4.0 kW
*以上數值僅供參考,根據不同條件實際數值將會有差異。
最大耗電量
17 kVA
25 kVA
放電用氣體
氣體種類
SF
6
: 純度在99.99%以上
He: 純度在99.99%以上
供應壓力
0.1 Mpa、變化範圍在0.03 MPa以下
*請客戶自行配備用於調整壓力的調節器以及氣體過濾器。
清洗用氣體
氣體種類
N
2
供應壓力
・範圍在0.5~0.8 MPa
・變化範圍在0.03 MPa以下
蝕刻加工室用
流量
50 L/min以上
1片晶片的消耗量
6L
(當設定條件為清洗時間7 sec、加工時間60 sec時)
亁式泵用
流量
1.5 L/min以上
1片晶片的消耗量
1.5 L
(當設定條件為加工時間60 sec時)
壓縮空氣
供給壓力
・範圍在0.5~0.8 MPa
・變化範圍在0.03 MPa以下
流量
在400 L/min以上(ANR)以上
水
冷卻RF電源以及上側電極・下側電極。
冷卻水容量
(冷卻裝置)
10~15 L(相當於2台的容量)
*
*採用循環式供水方式,但仍需視情況補充冷卻水(純水)。
排氣管
下面的3個系統都必須進行排氣。
(1)設備主機用排氣管
功能
檢測主機內是否有氣體泄漏現象
・在設備及工程發生異常時,防止有害氣體向設備外泄漏。
排氣量
在4 m
3
/ 以上
(下列靜壓條件下,在設備主機的排氣管連接口進行測量)
靜壓
-1,200 Pa ~ -130 Pa
(在設備主機的排氣管連接口進行測量)
(2)輔助裝置用排氣管
功能
在輔助裝置內,檢測有害氣體泄漏並排出熱量。
排氣量
7 m
3
/ 以上
(下列靜壓條件下,在設備主機的排氣管連接口進行測量)
靜壓
-1,200 Pa ~ -100 Pa (在設備主機的排氣管連接口進行測量)
(3)工程內廢氣排氣管
功能
排出加工處理後的廢氣
・排出經過排氣處理裝置的廢氣。其中含有未經使用的SF6氣體。
排氣量
0.6m
3
/ 以上
靜壓
-1,200 Pa ~ -45 Pa
(在設備主機的排氣管連接口進行測量)
設備尺寸
主機
1,400 x 2,500 x 1,800
輔助裝置
775 x 942 x 1,525
冷卻裝置
*需要2台
413 x 610 x 664(1台)
540 x 743 x 772(1台)
設備重量
主機
約870 kg
約1.048 kg
輔助裝置
約230 Kg
(不包括重約40kg的排氣筒)
冷卻裝置
*需要2台
約90 kg x 2
約130 kg x 2
*
為了改進設備,本公司可能在沒有預先通知客戶的情況下,就對本規格實施變更,因此請仔細確認規格後,再發出訂單。
Back to Top
精密加工装置
切割機(Dicing and Cutting Saw)
雷射切割機(Laser Saw)
研磨機(Grinder)
拋光機(Polisher),
乾式蝕刻機(Dry etcher)
研磨機/拋光機 8000系列
拋光機 8000系列
乾式蝕刻機 8000系列
多功能晶片框架粘貼機机(Wafer Mounter)
分離擴片機(Die Separator)
鉋平機(Surface Planer)
水刀切割機(WaterJet Saw)
適用於新製程的產品
精密加工工具
切割刀片
研磨輪
乾式拋光輪
安全使用說明
其他產品
週邊設備
相關產品
下載
下載產品目錄
SECS/GEM Communication Specification Downloads
Personal Information Protection Policy
User Agreement
Contact
Back To Top